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2 thg 3, 2021 · Plasma是一套KDE的设计和基于QT5的实现，有着于以往非常不同的体验，几乎是重写。 你可以认为类似于大版本号的东西。
30 thg 7, 2019 · Xfce 耗能小而稳，但是是gtk2，某些方面会吃亏 KDE 很好看用着很顺，定制性高，但是耗能大不太稳定有点卡 GNOME 定制性差，耗能中等，不稳定，使用体验中等，比较好看，但是毕竟是gtk3 建议kde，关掉桌面效果里的毛玻璃就不算卡了
我想要一个默认样式类似Windows，但可定制性很好的桌面环境——KDE Plasma（manjaro官方支持） 我想要一个最像Windows的桌面环境——UKUI（manjaro不支持，但旧版本存在于软件源） 我想要一个GNOME2风格、比较轻量的桌面环境——MATE（manjaro社区支持） 以下是原回答：
23 thg 2, 2021 · plasma等离子清洗机喷射出来的准确来说不是火焰，是等离子体中的光子导致的， 等离子体 中包括光子、电子、电子、 原子 和分子等物质；设备温度在大概在50-80摄氏度，有些甚至更低。
尝鲜了一下。 说下最直观的感受， wayland 下终于可以开启4k真缩放且没有模糊感了。喜大普奔。以往高分屏+kde+wayland的组合是真的用不了一点。 kde6 总算解决了。（是不是真的完全解决了，还需要更多时间体验，目前刚更新） 然后更新了很多地方对于touch操作的支持，很明显，kde是想往移动端上发力 ...
Dry etch常见profile类型、产生原理及相关改善方法 写在前面 Dry etch工艺过程中，我们所需传递的pattern多为line、trench、hole等。一般情况下，我们期望得到比较垂直的…
Plasma Etch 为什么需要Low Pressure Plasma Etch的开发方向为 low pressure， high density plasma。 为什么需要低压呢？ 1. MFP: pressure 降低->粒子数减少， MFP增加 2. Particle： 低压下，杂质少，工艺control容易 3. Sheath Potential：pressure 降低…
plasma的词源最初是从词根“*pele-”“流动”衍生出的“ * plath-yein”，后来的 血浆 blood plasma 应该就直接继承这个含义，又衍生出类似血浆的细胞质（或者成为细胞浆？ ）和等离子体（又译为“电浆”）。 Plasma cell 也被翻译为 浆细胞。
刚刚做完Plasma，回答一下Plasma吧。 做之前，已经查了很多资料，我以为准备要做的是CO2，看了知情书后才知道是Plasma.大概需要做三次。
当前dry etch机台种类较多，同类设备不同厂商设计也各不相同（避免专利纠纷）。因为Plasma是靠外加能量的输入来维持刻蚀gas的等离子体状态，不同的能量输入方式以及机台结构的设计对等离子体的性能及应用均会产生很大影响。最常见也最常用的dry etch设备为ICP（Inductive Coupled Plasma ：电感耦合 ...
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